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カ`ボンナノチュ`ブとセルロ`スナノファイバ`から互業щ來}栽Sを_k

‐云僥冩梢宀秤鵝

送悶親僥冩梢侭 縮娩 互栂倔随
冩梢片ウェブサイト

‐k燕のポイント/

  • g咼`ボンナノチュ`ブ廣1とセルロ`スナノファイバ`廣2の}栽晒に撹孔しました。
  • 住送と送をMみ栽わせた鏡徭のS塘魴┐鰉辰い董▲札襯踪`スSに互いщ來を原嚥しました。
  • 50%という互いカ`ボンナノチュ`ブの根嗤楚でも}栽Sの互業?互z來晒に撹孔しました。
  • 愔瓦遼蛍センサ`にしてs5蔚の奮湖業をgFし、互業?X楚、詰h廠塞というセルロ`スの蒙來を伏かした階互湖業邦蛍センサ`や仟たなエレクトロデバイス、エレクトロニクス可創への鮄辰豚棋されます。

‐古勣/

直可SをC亠議?晒僥議にナノオ`ダ`まで盾きほぐすことのできるセルロ`スナノファイバ`CNFは、岷抄方10 nm殻業の互Y唱來の階裏Sであり、肝弊旗のバイオマス殆可として廣朕を鹿めています。このセルロ`スナノファイバ`を壅栽撹することにより、セルロ`ス云栖の嗤するれた可創蒙來を嗤するセルロ`スSをuする冩梢が弊順議にMめられています。

|臼寄僥送悶親僥冩梢侭の互栂倔随縮娩は、致忽ワシントン寄僥┘錺轡鵐肇黏櫂轡▲肇襭のAnthony B. Dichiara┘▲鵐愁蓬` B. ディキアラ彈縮娩との忽H慌揖冩梢により、セルロ`スナノファイバ`に互щ來を嗤するg咼`ボンナノチュ`ブを詞栽することで仟たなщ來}栽セルロ`スSの_kに撹孔しました。愔桓斜gでは、カ`ボンナノチュ`ブCNTの根嗤により、ナノセルロ`スファイバ`gのY栽が怦墾され、}栽S業が詰和することがn}となっておりました。云冩梢においては、と送れによる鏡徭のS塘鰆酉隈により、50%という互いカ`ボンナノチュ`ブ根嗤楚においても可創業を詰和させることなく、щ來セルロ`ス}栽Sをuすることに撹孔しました。

云撹惚は、2023定7埖12晩━F仇rgに致忽晒僥氏がk侵するACS Applied Materials & Interfacesにdされ云IのSupplementary Coverにx竃されました。

1.住送と送れによりセルロ`スナノファイバ`とカ`ボンナノチュ`ブからなる裏SをS圭鬚謀簣鬚気擦襪海箸韮互業щ來}栽Sをu。

‐喘Z盾h/

廣1. g咼`ボンナノチュ`ブ
g咾離哀薀侫Д鵤┘魯縫ム夛の命殆圻徨から撹るシ`ト彜麗|から撹される@ぎ朕のない厖苛肝閂|。互いщ來を嗤しX楚でありながら互業互來といったれたC亠議蒙來を嗤する。

廣2. TEMPO磨晒セルロ`スナノファイバ`
TEMPO (2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl radical) 乾箪磨晒により誼られたセルロ`スナノファイバ`。ファイバ`gの互畜業の塞郡kと償邑R森により、ナノファイバ`晒が辛嬬となる。

┘廛譽好螢蟋`ス云猟PDF

い栽わせ枠

冩梢にvすること
|臼寄僥送悶親僥冩梢侭
縮娩 互栂倔随
TEL:022-217-5223
E-mail: takana*tohoku.ac.jp*を@に崔きQえてください

鶺世哩vすること
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E-mail:ifs-koho*grp.tohoku.ac.jp*を@に崔きQえてください

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